Dalam percubaan-sinar difraksi (XRD), menggunakan substrat latar belakang sifar-boleh mengurangkan gangguan daripada substrat itu sendiri kepada isyarat pembelauan sampel dengan ketara, yang menghasilkan corak pembelauan yang berkualiti tinggi.Pemilihan orientasi kristalialah salah satu faktor teras untuk mencapai sifar-prestasi latar belakang.
Prinsip Teras
Pemilihan orientasi kristal untuk sifar-substrat latar belakang mengikut prinsip mudah:Letakkan puncak pembelauan utama substrat silikon di luar julat pengimbasan 2θ yang biasa digunakan bagi eksperimen, dengan itu mengelakkan gangguan dengan isyarat pembelauan daripada sampel itu sendiri.
Julat pengimbasan eksperimen XRD serbuk konvensional kebanyakannya tertumpu pada5 darjah - 90 darjah (2θ), jadi adalah perlu untuk memilih orientasi kristal khas supaya puncak pembelauan ciri silikon muncul di luar julat ini.
Orientasi Khas yang Biasa Digunakan
1. <510>Orientasi
- Ciri-ciri pembelauan: Puncak pembelauan utama silikon muncul pada sudut 2θ yang agak tinggi, yang melebihi julat pengimbasan yang biasa digunakan bagi eksperimen XRD konvensional. Oleh itu, hampir tiada puncak pembelauan substrat silikon yang jelas akan muncul dalam julat 5 darjah -90 darjah .
- Kelebihan: Prestasi sifar-latar belakang yang sangat baik, pada masa ini merupakan orientasi substrat sifar-latar belakang yang paling biasa digunakan dalam penyelidikan saintifik.
- Kebolehgunaan: Disyorkan untuk kebanyakan eksperimen XRD konvensional, terutamanya serbuk XRD dan ujian XRD sudut-rendah.
2. <511>Orientasi
- Ciri-ciri pembelauan: Serupa dengan<510>, puncak pembelauan cirinya juga terletak di luar julat eksperimen konvensional dan tidak akan menyebabkan gangguan ketara kepada isyarat sampel.
- Kelebihan: Juga menyediakan sifar{0}}prestasi latar belakang yang sangat baik.
- Kebolehgunaan: Satu lagi pilihan arus perdana, sesetengah penyelidik lebih suka orientasi ini berdasarkan konfigurasi instrumen atau tabiat eksperimen.
Mengapa Orientasi Konvensional Tidak Sesuai?
Orientasi wafer silikon yang paling biasa di pasaran ialah<100>dan<111>, tetapi ia tidak sesuai untuk sifar-substrat latar belakang:
|
Orientasi Konvensional |
Puncak Difraksi Utama (2θ) |
Masalah |
|
<100> |
Si(400) puncak ~69 darjah |
Jatuh betul-betul dalam julat ujian yang biasa digunakan, menghasilkan puncak substrat yang kuat yang secara serius mengganggu isyarat sampel |
|
<111> |
Si(111) puncak ~28 darjah |
Terletak di tengah-tengah julat ujian konvensional, gangguan adalah lebih ketara |
Oleh itu, walaupun orientasi konvensional sedia ada, ia sama sekali tidak disyorkan untuk sifar-percubaan XRD latar belakang.
Panduan Pemilihan Orientasi
- Pilih berdasarkan julat ujian: Jika percubaan anda tertumpu terutamanya pada kawasan sudut-rendah (sudut-kecil XRD), kedua-duanya<510>dan<511>boleh memenuhi permintaan dan kedua-duanya mempunyai kesan latar belakang sifar{0}}yang baik.
- Pilih berdasarkan tabiat peribadi: Makmal yang berbeza mungkin mempunyai tabiat penggunaan tradisional. Kedua-dua orientasi diterima secara meluas dalam akademik, dan anda boleh memilih mengikut pengalaman anda sendiri.
- Penyesuaian kelompok kecil: Orientasi khas tidak boleh diperoleh daripada inventori konvensional dan memerlukan pemotongan tersuai. Kami menyokong-penyesuaian kelompok kecil bagi kedua-duanya<510>dan<511>orientasi, dengan pesanan minimum 5 keping.
Jadual Ringkasan
|
Orientasi |
Sifar-Prestasi Latar Belakang |
Ketersediaan |
Syor |
|
<510> |
⭐⭐⭐⭐⭐ |
Boleh disesuaikan |
🌟🌟🌟🌟🌟 |
|
<511> |
⭐⭐⭐⭐⭐ |
Boleh disesuaikan |
🌟🌟🌟🌟 |
|
<100> |
❌ |
Dalam Stok |
❌ |
|
<111> |
❌ |
Dalam Stok |
❌ |
Tentang Kami
Ningbo Sibranch Microelectronics Technology Co., Ltd. boleh menyesuaikan dan menyediakan<510>atau<511>orientasi XRD sifar-wafer silikon substrat latar belakang mengikut keperluan penyelidikan. Kami menyokong saiz khas, ketebalan dan keperluan rawatan permukaan, dan menerima pesanan kelompok kecil.
laman web: www.sibranch.com|https://www.sibranchwafer.com/
Akaun WeChat Rasmi: Sibranch Electronics
Untuk pertanyaan penyesuaian, sila hubungi kami.
